从影响拓荆科技2024年经营业绩的主要因素看，面向国内集成电路行业快速发展带来的机遇，公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业，继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化，凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势，PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大，持续获得客户订单 ...

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。自成立以来，公司始终坚持自主研发、自主创新，目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜设备产品，产品主要应用于集成电路晶圆制造、先进存储 ...