CINNO Research产业资讯，Blank mask生产企业S&S Tech成功开发出了穿透率达90%的半导体EUV制程用防护膜(pellicle)，这是韩国首次。目前 ...

公众号记得加星标，第一时间看推送不会错过。 据 TheElec 报道，空白掩模制造商 S&S Tech 计划明年将其空白掩模的价格提高约 10%。 这是由于用作面具原材料的石英价格持续稳步上涨所致。 S&S Tech公司就此事正与国内外客户进行磋商。此次涨价涉及其生产的所有掩 ...

据 TheElec 报道，空白掩模制造商 S&S Tech 计划明年将其空白掩模的价格提高约 10%。 这是由于用作面具原材料的石英价格持续稳步上涨所致。 S&S Tech公司就此事正与国内外客户进行磋商。此次涨价涉及其生产的所有掩模产品，无论其用途是芯片还是显示器。

据台媒DIGITIMES报道，三星电子将在其3nm工艺中采用透光率超过90%的最新EUV薄膜（pellicle）以提高良率，这些薄膜将来自韩国公司S&S Tech。 光掩膜板材料（Blankmask）公司S&S Tech在2021年生产成功开发出了透光率达90%的半导体EUV薄膜，一举成为除了ASML之外另一家成功 ...